1.普通陽極氧化

　　鋁及其合金經普通陽極氧化可在其表面形成一層Al2O3膜，使用不同的陽極氧化液，得到的Al2O3膜結構不同。陽極氧化時，鋁表面的氧化膜的成長包含兩個過程：膜的電化學生成和化學溶解過程。只有膜的成長速度大于溶解速度時，氧化膜才能成長、加厚。普通陽極氧化主要有硫酸陽極氧化、鉻酸陽極氧化、草酸陽極氧化和磷酸陽極氧化等，以下介紹一些普通陽極氧化新工藝。

    2寬溫快速陽極氧化

　　硫酸陽極氧化電解液的溫度要求在23℃以下，當溶液的溫度高于25℃時，氧化膜變得疏松、厚度薄、硬度低、耐磨性差，因此在原硫酸溶液中加入氧化添加劑對原工藝進行改進，改進后的溶液配方為：

　　硫酸(ρ＝1.84g／cm3)150-200g／L(佳值160g／L)CK-LY添加劑　　　　　　20-35g／L(佳值30g／L)鋁離子　　　　　　　　 0.5-20g／L(佳值5g／L)

　　CK-LY氧化添加劑包括特定的有機酸和導電鹽，前者能提高電解液的工作溫度，抑制陽極氧化膜的化學溶解，在較高的溫度下對抑制氧化膜疏松有良好的作用；后者能增強電解液的導電性，提高電流密度，加快成膜速度。該添加劑溶于硫酸電解液，對電解液中的金屬離子有絡合作用，使溶液中鋁離子的容忍量提高，氧化液的壽命延長，操作溫度可達30℃以上，而普通硫酸氧化工藝21℃以上就必須開冷水機；同時減少了氧化時間，并可獲得高質量的氧化膜。